《中关村科学城集成电路流片补贴申报指南》（简称《申报指南》）在2025海淀区经济社会高质量发展大会上正式发布，面向海淀区从事集成电路设计业务的企业，支持集成电路设计企业开展多项目晶圆（MPW）或工程产品首轮流片（全掩膜），在支持集成电路设计企业开展多项目晶圆（MPW）首轮流片方面，对境内企业按照不超过产品流片费用的50%予以奖励，对境外企业按照不超过产品流片费用的30%予以奖励，在支持集成电路设计企业开展工程产品首轮流片（全掩膜）方面，对境内开展先进制程（14nm及以下）工程产品首轮流片（全掩膜）的企业，按照不超过产品流片费用的30%予以奖励，对在境内开展成熟制程（14nm以上）工程产品首轮流片（全掩膜）的企业，按照不超过产品流片费用的20%予以奖励，对在境外开展先进制程（14nm及以下）工程产品首轮流片（全掩膜）的企业，中关村科学城集成电路流片补贴申报单位需在相关期限内开展多项目晶圆（MPW）或工程产品首轮流片（全掩膜），单个企业本年度奖励金额最高不超过1500万元，明确未来三年集成电路设计产业的发展任务。